LPMS CVD 05紧凑型側式真空氣相沉積設備
天赛公司是由国内外低压注塑专家组成的经营团队。凭借著--技术和敬业精神,自行研发出了三大系列28种机型的低压注塑机,取得多项国内外证书。满足了不同技术制程的要求,适用于各种类型的低压注塑领域。 因此我们在低压注塑方面积累了丰富的经验和技术。奠定我们在低压注塑领域的肯定。
本著以客为尊的理念,天赛公司把低压注塑技术奉献并服务于广大客户。由于我们公司所秉持的开发创新、质量、顾客满意、持续改进企业精神,继续赢得了国内外客户的支持和好评。 真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧的薄膜塗層。廣泛應用於:航空航太、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領域產品的防水封裝與保護工藝中。
l 直徑0.5米不銹鋼真空反應罐,堅固耐用,鍍膜速度快。
l 機台一體式設計,結構緊湊,占地小。
l 真空管路採用不銹鋼連節,方便維護及保養。
l 側開式門設計便於取放產品與腔體清潔等維護作業。
l 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍膜過程中勻速旋轉,鍍層-均勻。
l 使用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空度。
l 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。
l 紅外線加熱圈,加溫速度快。
l 採用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。
l 定時加熱、超溫報-和自動停止加熱等保護功能
l 自診功能和各種故障報-。
l 選配遠程控制和手機APP功能。
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